特別プロジェクト「超大規模集積回路の製造設備及び生産技術（略称：IC設備特別プロジェクト）」は電子情報の分野に属する。同プロジェクトの主要任務は、IC製造のコア設備と技術でブレークスルーを果たし、中国のIC産業発展をサポートすることだ。同プロジェクトは地方政府が筆頭となって実施する唯一の重大特別プロジェクトであり、北京市、上海市が筆頭となって実施している。人民日報が22日に伝えた。
第11次五カ年計画（2006-2010年、十一五）期間中、同プロジェクトでは重点的に65-45nm（ナノメートル）技術に対する体系的な配置を行い、革新的なブレークスルーを果たした。北京北方微電子公司が開発した12 インチの65nmゲートエッチング装置、北京中科信公司が開発した12インチのイオン注入装置は現在、中芯国際の生産ラインで審査を受けており、各指標は国外の同タイプ製品と同レベルに達している。また、上海中微半導体公司が開発した12 インチの65nm絶縁膜エッチング装置は台湾、韓国、日本からすでに20台あまりの注文を獲得している。上海微電子装備公司が開発したステップ式リソグラフィ投影装置は、江陰長電のパッケージ生産ラインに導入され、中国のリソグラフィ製品における重大なブレークスルーとなった。
現在、技術者1万人以上が同プロジェクトに参加しており、うち、ミドルレベル・ハイレベルの開発者は52％を占める。このほか、ハイエンド製品の開発経験と、グローバル市場の運営能力を持つ海外留学帰国者195人が参加している。中でも「千人計画（海外ハイレベル人材招致計画）」を通じて招聘した22人の海外ハイレベル人材により、国内の開発能力と産業化レベルは大きく高まった。