マイクロエレクトロニクス研究所
研究機関の概要
| 大学名 日本語 | マイクロエレクトロニクス研究所 |
|---|---|
| 英語 | Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences |
| 本部所在地 | 北京市朝陽区北土城西路3号 |
| 土地面積（㎡） | － |
| 建物面積（㎡） | － |
| ウェブサイト（URL) | http://www.ime.cas.cn/ |
| 院士数 | 中国科学院院士2人 |
| 予算（2021年度：万元） | － |
沿革・特徴
中国科学院マイクロエレクトロニクス研究所の前身は、1958年に創設された中国科学院第109工場である。1986年に第109工場と中国科学院半導体研究所、計算技術研究所の大規模集積回路に関連する部門が統合され、マイクロエレクトロニクス研究所が形成された。中国のマイクロエレクトロニクス研究のリーダー研究開発機関である。
代表的なプロジェクト、研究成果など
超ブロードバンド短波による短距離通信技術の定義開発（通信学会科学技術奨励発明類一等賞）、TSVにもとづく2.5D/3D半導体封止製造技術システム体系の研究（中国電子学会科学技術賞発明類二等賞）、原子積層メカニズムの解明と応用（北京市科学技術賞三等賞）、22-14ナノ集積回路設計製造技術の研究（国家技術発明賞二等賞）などを受賞した。